Slurry and polishing method

WO2025047025 Art A1 6. März 2025

Anmelder: Resonac Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2025047025
Aktenzeichen
EP24859074
Anmeldetag
29. Mai 2024
Veröffentlichung
6. März 2025
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/304
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Resonac Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Resonac

Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, hervorgegangen aus Showa Denko. Das Unternehmen stellt unter anderem Halbleitermaterialien, Elektronikchemikalien und funktionale Chemieprodukte her.

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