Photosensitive composition, cured product, method for producing same, liquid crystal device, semiconductor device, polymer, and compound

WO2025047698 Art A1 6. März 2025

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025047698
Aktenzeichen: EP24859730
Anmeldetag: 27. August 2024
Veröffentlichung: 6. März 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/023C08G73/10G03F7/004G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

2.270 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von