Alkaline aqueous solution for semiconductor, method for use as low-toxicity alkaline aqueous solution for semiconductor, and method for producing alkaline aqueous solution for semiconductor
WO2025047955
Art A1
6. März 2025
Anmelder: TOKUYAMA CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025047955
- Aktenzeichen
- EP24859980
- Anmeldetag
- 30. August 2024
- Veröffentlichung
- 6. März 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/32C07C211/63G03F7/40H01L21/027H01L21/304H01L21/306H01L21/308
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKUYAMA CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokuyama
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Shunan, gegründet 1918. Produziert unter anderem Spezialchemikalien, Zement und Halbleitermaterialien.
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Vertreten von
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