Photoresist Developing Solution

WO2025047956 Art A1 6. März 2025

Anmelder: TOKUYAMA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025047956
Aktenzeichen: EP24859981
Anmeldetag: 30. August 2024
Veröffentlichung: 6. März 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/32C07C211/63G03F7/20G03F7/26H01L21/304H01L21/306H01L21/308

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKUYAMA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokuyama

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Shunan, gegründet 1918. Produziert unter anderem Spezialchemikalien, Zement und Halbleitermaterialien.

1.073 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Organische Chemie

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