Semi-supervised, self-supervised, and reinforcement learning machine learning models for mask prediction

WO2025051477 Art A1 13. März 2025

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025051477
Aktenzeichen: EP24754362
Anmeldetag: 7. August 2024
Veröffentlichung: 13. März 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/36G03F1/70G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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