Verfahren zur Aktivierung einer Oberfläche eines Nichtleitenden oder Kohlenstofffaserhaltigen Substrats zur Metallisierung

WO2025051732 Art A1 13. März 2025

Anmelder: Atotech Deutschland GmbH & Co. KG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2025051732
Aktenzeichen
EP24764868
Anmeldetag
3. September 2024
Veröffentlichung
13. März 2025
Rechtsraum
WO
IPC
C23C18/18C23C18/20C23C18/28C23C18/40
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Atotech Deutschland GmbH & Co. KG
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Atotech Deutschland

Atotech Deutschland ist ein deutscher Anbieter von Oberflächenveredelungschemie, unter anderem für die Elektronik- und Halbleiterindustrie, und gehört zum US-Konzern MKS Instruments. Das Patentportfolio konzentriert sich deutlich auf Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt durch Elektronik und Halbleitertechnik. Anmeldungen erstrecken sich von 2000 bis 2025.

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