Method of operating a microlithographic projection exposure apparatus

WO2025051840 Art A1 13. März 2025

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V., CARL ZEISS SMT GMBH 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025051840
Aktenzeichen: EP24765193
Anmeldetag: 5. September 2024
Veröffentlichung: 13. März 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML NETHERLANDS B.V.
CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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