Method for manufacturing surface-treated substrate, method for selectively modifying substrate surface, and composition for semiconductor treatment

WO2025052776 Art A1 13. März 2025

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025052776
Aktenzeichen: EP24862433
Anmeldetag: 9. Juli 2024
Veröffentlichung: 13. März 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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