Substrate treating method and substrate manufacturing method
WO2025052986
Art A1
13. März 2025
Anmelder: CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025052986
- Aktenzeichen
- EP24862638
- Anmeldetag
- 26. August 2024
- Veröffentlichung
- 13. März 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C16/02H01L21/312
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Central Glass
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das Flachglas, Spezialglas sowie Fluorchemikalien für Industrie und Bauwesen herstellt.
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Vertreten von
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