Alloy thin film and sputtering target
WO2025057705
Art A1
20. März 2025
Anmelder: PROTERIAL, LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025057705
- Aktenzeichen
- EP24865209
- Anmeldetag
- 23. August 2024
- Veröffentlichung
- 20. März 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/14C23C14/34
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- PROTERIAL, LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Proterial
Japanisches Unternehmen (frühere Firmierung Hitachi Metals), das Spezialstähle, Magnetwerkstoffe und Metallkomponenten für Industrie und Automobilbau herstellt.
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Fachgebiete
Vertreten von
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