Resist material and method for producing same

WO2025057858 Art A1 20. März 2025

Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2025057858
Aktenzeichen
EP24865358
Anmeldetag
5. September 2024
Veröffentlichung
20. März 2025
Rechtsraum
WO
IPC
G03F7/004
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

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