Oxide semiconductor thin film, semiconductor device and method for manufacturing same, and sputtering target and method for manufacturing sputtering target

WO2025057882 Art A1 20. März 2025

Anmelder: ULVAC, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025057882
Aktenzeichen: EP24865382
Anmeldetag: 6. September 2024
Veröffentlichung: 20. März 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/363C04B35/01C23C14/08C23C14/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ULVAC, INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 ULVAC

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Chigasaki, spezialisiert auf Vakuumtechnik sowie Anlagen für die Halbleiter- und Displayfertigung.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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