Laminate, semiconductor device using same, and method for producing laminate

WO2025057921 Art A1 20. März 2025

Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD., KOCHI PREFECTURAL PUBLIC UNIVERSITY CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025057921
Aktenzeichen: EP24865421
Anmeldetag: 10. September 2024
Veröffentlichung: 20. März 2025
Rechtsraum: WO
IPC: C30B29/16C23C16/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
KOCHI PREFECTURAL PUBLIC UNIVERSITY CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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