Optical element for use in euv lithography
WO2025061415
Art A1
27. März 2025
Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025061415
- Aktenzeichen
- EP24758858
- Anmeldetag
- 23. August 2024
- Veröffentlichung
- 27. März 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/00G02B7/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML NETHERLANDS B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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