Scanning electron microscope with inspection and measurement model, and method for correcting inspection and measurement model

WO2025062546 Art A1 27. März 2025

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025062546
Aktenzeichen: EP23953033
Anmeldetag: 21. September 2023
Veröffentlichung: 27. März 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/22H01J37/28

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

3.840 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von