Substrate processing method, substrate processing apparatus, and computer storage medium

WO2025063122 Art A1 27. März 2025

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025063122
Aktenzeichen: EP24868199
Anmeldetag: 12. September 2024
Veröffentlichung: 27. März 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/42G03F7/20G03F7/40H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.255 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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