Low resistivity metal stacks and methods of depositing the same
WO2025064332
Art A1
27. März 2025
Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025064332
- Aktenzeichen
- EP24868984
- Anmeldetag
- 16. September 2024
- Veröffentlichung
- 27. März 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/285C23C14/04C23C14/14C23C14/34C23C14/58H01L21/3205H01L21/321H01L23/532
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- APPLIED MATERIALS, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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