Chemical Vapor Deposition-Enhanced Atomic Layer Deposition

WO2025064337 Art A1 27. März 2025

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025064337
Aktenzeichen: EP24868985
Anmeldetag: 16. September 2024
Veröffentlichung: 27. März 2025
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/455C23C16/56C23C14/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von