Pressure monitoring apparatus, semiconductor cleaning device, and monitoring method therefor
WO2025066823
Art A1
3. April 2025
Anmelder: ACM RESEARCH (SHANGHAI), INC. 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025066823
- Aktenzeichen
- EP24870369
- Anmeldetag
- 4. September 2024
- Veröffentlichung
- 3. April 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01L5/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ACM RESEARCH (SHANGHAI), INC.
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
ACM Research (Shanghai)
ACM Research (Shanghai) ist die chinesische Tochtergesellschaft des US-notierten Halbleiterausrüsters ACM Research mit Sitz in Shanghai, der Reinigungs- und Beschichtungsanlagen für die Chipfertigung herstellt. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie- und Verfahrenstechnik. Die Anmeldungen decken den Zeitraum von 2007 bis 2025 ab.
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