Method for producing an optical system for a lithography apparatus, substrate for an optical component of a lithography apparatus, and lithography apparatus

WO2025068034 Art A2 3. April 2025

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025068034
Aktenzeichen: EP24776215
Anmeldetag: 19. September 2024
Veröffentlichung: 3. April 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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