Laminate, transistor, laminate manufacturing method, and transistor manufacturing method
WO2025069203
Art A1
3. April 2025
Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025069203
- Aktenzeichen
- EP23954179
- Anmeldetag
- 26. September 2023
- Veröffentlichung
- 3. April 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H10D30/01
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NIKON CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nikon
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.
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