Compound, photosensitive surface treatment agent, laminate production method, and transistor production method

WO2025069235 Art A1 3. April 2025

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025069235
Aktenzeichen: EP23954211
Anmeldetag: 27. September 2023
Veröffentlichung: 3. April 2025
Rechtsraum: WO
IPC: C07F7/04G03C1/72G03F7/004G03F7/38

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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