Radiation-sensitive composition and method for forming resist pattern

WO2025069728 Art A1 3. April 2025

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025069728
Aktenzeichen: EP24871530
Anmeldetag: 8. August 2024
Veröffentlichung: 3. April 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C08F22/24G03F7/20G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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