Resist composition, method for producing resist composition, substrate processing device, and substrate processing method

WO2025070203 Art A1 3. April 2025

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025070203
Aktenzeichen: EP24871995
Anmeldetag: 18. September 2024
Veröffentlichung: 3. April 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07D221/06G03F7/20G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.255 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von