Finding Substrate Notch On Substrate Between Platens in Chemical Mechanical Polishing
WO2025072007
Art A1
3. April 2025
Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025072007
- Aktenzeichen
- EP24873335
- Anmeldetag
- 18. September 2024
- Veröffentlichung
- 3. April 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B24B37/005B24B37/10B24B49/12B24B37/30H01L21/304
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- APPLIED MATERIALS, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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Vertreten von
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