Facet mirror for an illumination optical unit for projection lithography suitable for use as first facet mirror
WO2025073457
Art A1
10. April 2025
Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025073457
- Aktenzeichen
- EP24773006
- Anmeldetag
- 17. September 2024
- Veröffentlichung
- 10. April 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/20G02B26/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- CARL ZEISS SMT GMBH
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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