Facet mirror for an illumination optical unit for projection lithography suitable for use as first facet mirror

WO2025073457 Art A1 10. April 2025

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2025073457
Aktenzeichen
EP24773006
Anmeldetag
17. September 2024
Veröffentlichung
10. April 2025
Rechtsraum
WO
IPC
G03F7/20G02B26/08
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
CARL ZEISS SMT GMBH
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

2.391 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen