Defect detection from a scanning electron microscope derived depth map with neural network and defect strength thresholding

WO2025073610 Art A1 10. April 2025

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V., TECHNISCHE UNIVERSITEIT EINDHOVEN 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025073610
Aktenzeichen: EP24786010
Anmeldetag: 27. September 2024
Veröffentlichung: 10. April 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G06T7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML NETHERLANDS B.V.
TECHNISCHE UNIVERSITEIT EINDHOVEN
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

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🇳🇱 Technische Universiteit Eindhoven

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Fachgebiete

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