Substrate with multilayer reflective film, reflective mask blank, reflective mask, method for manufacturing substrate with multilayer reflective film, method for manufacturing reflective mask blank, and method for manufacturing reflective mask
WO2025074814
Art A1
10. April 2025
Anmelder: AGC INC. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025074814
- Aktenzeichen
- EP24874426
- Anmeldetag
- 9. September 2024
- Veröffentlichung
- 10. April 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F1/24G03F1/42G03F1/82G03F1/84
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- AGC INC.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
AGC (Asahi Glass)
Japanischer Glas- und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, früher als Asahi Glass Company firmierend. AGC entwickelt Flachglas, elektronische Materialien, Spezialchemikalien sowie Glasprodukte für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.
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