Gallium nitride film, method for producing same, laminated substrate, semiconductor element, and electronic apparatus

WO2025075016 Art A1 10. April 2025

Anmelder: TOSOH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2025075016
Aktenzeichen
EP24874617
Anmeldetag
1. Oktober 2024
Veröffentlichung
10. April 2025
Rechtsraum
WO
IPC
C23C14/06C23C14/34C30B25/06C30B29/38H01L21/203
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
TOSOH CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tosoh Corporation

Japanisches Chemieunternehmen, das Petrochemikalien, Spezialchemikalien und Zement herstellt.

1.003 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von

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