Selectivity in Thermal Etch Processes Through Surface Passivation

WO2025076005 Art A1 10. April 2025

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025076005
Aktenzeichen: EP24875263
Anmeldetag: 1. Oktober 2024
Veröffentlichung: 10. April 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/311H01L21/67

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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