Substrate treatment method and substrate treatment device

WO2025079441 Art A1 17. April 2025

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025079441
Aktenzeichen: EP24877040
Anmeldetag: 27. September 2024
Veröffentlichung: 17. April 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027B05C9/04B05C9/12B05C11/08H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.255 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von