Film forming method, method for manufacturing semiconductor device, and film forming system
WO2025079541
Art A1
17. April 2025
Anmelder: CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025079541
- Aktenzeichen
- EP24877137
- Anmeldetag
- 7. Oktober 2024
- Veröffentlichung
- 17. April 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/316C23C16/04C23C16/40H01L21/31
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Central Glass
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das Flachglas, Spezialglas sowie Fluorchemikalien für Industrie und Bauwesen herstellt.
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