Composition, resin composition, composition for film formation, composition for forming lithographic film, and composition for forming resist film
WO2025079631
Art A1
17. April 2025
Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025079631
- Aktenzeichen
- EP24877225
- Anmeldetag
- 10. Oktober 2024
- Veröffentlichung
- 17. April 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08F20/10C07C39/367C07C43/23C07C43/196C07C43/253C07C43/315C07C49/813C07C69/653C08F218/02C08F220/22G03F7/039
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
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