Compound, composition, resin composition, composition for forming film, composition for forming film for lithography, and composition for forming resist film
WO2025079648
Art A1
17. April 2025
Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025079648
- Aktenzeichen
- EP24877242
- Anmeldetag
- 10. Oktober 2024
- Veröffentlichung
- 17. April 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C07C43/225C07C43/243C07C43/247C07C43/313C07C43/315
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
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