Developing solution for photosensitive resin composition, developing method, and pattern formation method
WO2025079961
Art A1
17. April 2025
Anmelder: LG CHEM, LTD. 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025079961
- Aktenzeichen
- EP24877498
- Anmeldetag
- 8. Oktober 2024
- Veröffentlichung
- 17. April 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/32G03F7/038G03F7/20G03F7/30
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- LG CHEM, LTD.
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
LG Chem
Südkoreanisches Chemieunternehmen, das Batteriematerialien, Kunststoffe, petrochemische Produkte und pharmazeutische Wirkstoffe herstellt.
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