Thermal conditioning system for use in an euv lithographic apparatus and method of thermally conditioning a patterning device in an euv lithographic apparatus

WO2025082713 Art A1 24. April 2025

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025082713
Aktenzeichen: EP24776594
Anmeldetag: 25. September 2024
Veröffentlichung: 24. April 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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