Verfahren und Vorrichtung zur Selektiven Modifikation der Schichtmorphologie in Supraleitern
WO2025087794
Art A1
1. Mai 2025
Anmelder: FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWAND, TECHNISCHE UNIVERSITÄT CHEMNITZ 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025087794
- Aktenzeichen
- EP24794347
- Anmeldetag
- 17. Oktober 2024
- Veröffentlichung
- 1. Mai 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H10N60/01
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWAND
TECHNISCHE UNIVERSITÄT CHEMNITZ - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Fraunhofer-Gesellschaft
Deutsche gemeinnützige Forschungsorganisation mit Sitz in München. Betreibt anwendungsorientierte Forschung in Technik und Naturwissenschaften über zahlreiche Institute für Industrie und Gesellschaft.
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