Reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

WO2025089390 Art A1 1. Mai 2025

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025089390
Aktenzeichen: EP24882498
Anmeldetag: 25. Oktober 2024
Veröffentlichung: 1. Mai 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/24G03F1/58G03F1/80G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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