Substrate and production method therefor for producing a wide-bandgap bidirectional switch
WO2025093586
Art A1
8. Mai 2025
Anmelder: SOITEC 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025093586
- Aktenzeichen
- EP24799527
- Anmeldetag
- 30. Oktober 2024
- Veröffentlichung
- 8. Mai 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/02H01L21/18H10D12/01H10D30/01H10D30/66H10D62/832H10D84/83H10D88/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SOITEC
- Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇫🇷
Soitec
Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.
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