Hollow particles, hollow particle production method, coating composition, and coated article
WO2025094928
Art A1
8. Mai 2025
Anmelder: ZEON CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025094928
- Aktenzeichen
- EP24885698
- Anmeldetag
- 29. Oktober 2024
- Veröffentlichung
- 8. Mai 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B01J13/14C08F2/18C08F20/00C08F32/00C08L25/00C08L101/00C09D7/65C09D201/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ZEON CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Zeon
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.
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