Diamond substrate, method for producing same, and sensor

WO2025094988 Art A1 8. Mai 2025

Anmelder: INSTITUTE OF SCIENCE TOKYO, SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD., NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025094988
Aktenzeichen: EP24885755
Anmeldetag: 30. Oktober 2024
Veröffentlichung: 8. Mai 2025
Rechtsraum: WO
IPC: C30B29/04C23C16/27C30B25/20H01L21/205

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: INSTITUTE OF SCIENCE TOKYO
SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

4.655 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.

3.785 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von