Source, assessment apparatus, method of cleaning a charged particle source, method of cleaning a component of an assessment apparatus

WO2025098766 Art A1 15. Mai 2025

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025098766
Aktenzeichen: EP24793821
Anmeldetag: 22. Oktober 2024
Veröffentlichung: 15. Mai 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/07H01J37/06H01J37/18

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von