Negative photosensitive resin composition, method for producing cured relief pattern using same, and semiconductor device

WO2025100302 Art A1 15. Mai 2025

Anmelder: ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025100302
Aktenzeichen: EP24888599
Anmeldetag: 29. Oktober 2024
Veröffentlichung: 15. Mai 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C08F2/44C08F290/14C08G73/12C08K5/13C08L79/08G03F7/037G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Asahi Kasei

Asahi Kasei ist ein japanischer Mischkonzern mit Sitz in Tokio, der in den Bereichen Chemie und Kunststoffe, Wohnungsbau sowie Medizintechnik tätig ist. Das 1922 gegründete Unternehmen zählt zu den größten Chemiekonzernen Japans.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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