Diffusion Barriers To Reduce Queue-Time Effects in Euv Lithography

WO2025101667 Art A1 15. Mai 2025

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025101667
Aktenzeichen: EP24889534
Anmeldetag: 6. November 2024
Veröffentlichung: 15. Mai 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/09G03F7/004G03F7/36G03F7/16

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von