Transistor channel stress and mobility metrology using multi-pass spectroscopic ellipsometry and raman joint measurement
WO2025101683
Art A1
15. Mai 2025
Anmelder: KLA CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025101683
- Aktenzeichen
- EP24889540
- Anmeldetag
- 7. November 2024
- Veröffentlichung
- 15. Mai 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01N21/21G01N21/65G06N20/00H01L21/66
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KLA CORPORATION
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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