Dual Collimator Physical Vapor Deposition Processing Chamber
WO2025101744
Art A1
15. Mai 2025
Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025101744
- Aktenzeichen
- EP24889579
- Anmeldetag
- 7. November 2024
- Veröffentlichung
- 15. Mai 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/34C23C14/54
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- APPLIED MATERIALS, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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