Method for manufacturing semiconductor device

WO2025105252 Art A1 22. Mai 2025

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025105252
Aktenzeichen: EP24891291
Anmeldetag: 6. November 2024
Veröffentlichung: 22. Mai 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H10B12/00H01L21/20H01L21/304H01L21/768H10D1/68H10D30/01H10D30/67H10D84/80H10D84/83H10D86/40H10D88/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.255 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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