Heat transfer systems for an extreme ultraviolet radiation utilization apparatus, methods of manufacturing the same and heat transfer methods for an extreme ultraviolet radiation utilization apparatus

WO2025108637 Art A1 30. Mai 2025

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025108637
Aktenzeichen: EP24794094
Anmeldetag: 18. Oktober 2024
Veröffentlichung: 30. Mai 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von