Contrastive deep learning for defect inspection

WO2025108661 Art A1 30. Mai 2025

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025108661
Aktenzeichen: EP24795220
Anmeldetag: 28. Oktober 2024
Veröffentlichung: 30. Mai 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G06T7/00G06F18/22G06N3/045G06V10/74

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Software & Datenverarbeitung

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