System for controlling gas flow in a laser discharge chamber

WO2025108832 Art A1 30. Mai 2025

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V., CYMER, LLC 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025108832
Aktenzeichen: EP24808898
Anmeldetag: 14. November 2024
Veröffentlichung: 30. Mai 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01S3/034H01S3/036H01S3/23H01S3/0971H01S3/225

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML NETHERLANDS B.V.
CYMER, LLC
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

399 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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